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供应光刻机

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光刻机
URE-17型
光刻机广泛适宜于在微电子行业及实验中使用。

主要用于功率器件、传感器、光电子器件、微波电路、微电子机械系统以及其它半导体电子元器件的单、双面对准及曝光工艺。光刻机其原理是对光刻胶掩膜进行曝光以形成光刻胶图形,采用的是接触式紫外曝光.

1.技术参数

1,曝光面积:f50-f125mm

2,分辨力:1.7mm(胶厚2 mm的正胶)

3,对准精度:±1mm(如不带显微镜,则不包含此项指标)

4,掩模样片整体运动范围:X:6mm;Y:6mm

5,掩模尺寸:2.5寸、3寸、4寸、5寸(配四个)

6,样片尺寸:直径f15mm-- f100mm

厚度0.1mm--6mm(可扩展为15mm)

7,照明均匀性: ±6%(f100mm 范围)

8,掩模相对于样片运动行程:

X: ±5mm; Y: ±5mm; q: ±6度

9,汞灯功率:200W(直流)

10,曝光波长:365nm

11,曝光方式:定时(到计时方式)

2.外形尺寸:650mm(长)′600mm(宽) ′900mm(高)

3.配置

(1)曝光头

200W进口直流高压汞灯(德国欧司朗)

1,XYZ汞灯调节台

2,光学系统

3,冷却风扇

(2)对准工件台

1,机器框架,掩模样片整体运动台

2,掩模样片相对运动台

3,转动台

4,样片调平机构,自动完成

5,样片调焦机构,气缸自动调

6,承片台3个(?50mm 、?75mm 、 ?100mm )

掩模夹4个(2.5寸、3寸、4寸、5寸)

掩模抽拉式上下机构

(3)电控系统

1,汞灯触发电源(200W直流汞灯)

2,单片机控制系统

3,控制机箱

(4)气动系统

1,气缸、电磁阀、减压阀、气动开关等

2,电磁阀驱动

3,气动仪表

4,真空泵一台

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  • 鑫有研电子科技有限公司系鑫有研企业集团在中国投资企业(企业简称:鑫有研,英文名称:SIYOUYEN)鑫有研系一家从事微电子工艺技术设备研发、设计、制造、销售、服务于一体的综合性企业。鑫有研:概念源自于21世纪初期美国,意为科技在社会技术方面应用的无缺体现,拥有“无缺生活,无缺科技”之桂冠美誉。鑫有研将科技领域的成功、社会责任和环境保护相结合。通过科技与创新,帮助微电子企业及高校实验室等机构客户满足当前及未来的需求。公司严格贯彻与规范实施ISO9001质量管理标准体系和ISO14001环境管理体系标准;鑫有研拥有一批技术先进、服务优良的高素质人才,和完善的售后服务体系。产品以其优越的品质进入国际市场,为国家要点工程配套、环保工业、科研、信息产业等做出了较大贡献,获得了广大用户的信赖与好评,鑫有研热诚欢迎广大客户、企业朋友等携手共同进步! 1、微电子工艺设备方面 鑫有研在半导体、太阳能、FPD领域湿制程设备的设计、研发、生产及销售;同时代理半导体、太阳能、FPD领域及其它国外设备,负责在中国市场的开发、推广、服务! 2、真空技术应用方面 鑫有研在真空行业领域,通过引近韩国、德国先进的真空技术与合作,开发出了旋片真空泵,无油真空泵,防爆真空泵等。同时与韩国WONCHANG,韩国DOOVAC,韩国NARA,韩国G&M,韩国KMC,意大利DVP,等形成战略联盟,致力于真空技术的推广与销售! 3、生物技术研发方面 鑫有研在生物技术方面与国家各个要点科研领域机构合作(质检,光学,教育,航天,海洋,石油,制药,检测等)共同致力于节能减排低碳环保产业,涉及节能环保化工、设备、研发和新技术推广等工作! 鑫有研企业集团先后***:“中国质量500强”“中国品牌500强”“中国有名品牌”等荣誉!

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