PPC862微波等离子去胶机

PPPC等离子清洗/去胶系统是一台台式微波等离子清洗机设备。等离子去胶机结合了下面的特点，并在众多的应用领域中得到肯定。

产品特色

负载循环控制，模拟功率控制

处理机存储

水冷底座

减少污水排放

安全保护设计

操作简便 维护方便

应用范围：

混合电路板制造中基片的清洗

打线工艺前清洗电子部件，提高其可靠性

锡焊或焊接工艺前,关键性镀金部件的清洗

清洗半导体元器件

光刻胶去胶

上胶、印刷和其它表面浸湿操作的表面准备

镀膜前对光学器件清洗

清洗石英、蓝宝石及其它材料

适用工艺：

打线垫清洗、减少金属氧化物、清洗 Pd-Ag 裸芯片垫；

去除光刻胶、塑料表面上胶处理、去除油渍或是环氧残留物；

清洗陶瓷基片、清洗玻璃部件、清洗光学部件、清洗半导体表面、清洗镀银部件；

塑胶密封剂去除--失效模式分析

型号

PPC862

PPC973

反应舱尺寸(H*W*D)

203mm x 152 mm x 50mm

229 x 178 x 76 mm

冷却面(H*W)

203 mm x 152 mm

229 mm x 178 mm

反应舱

方形舱体

方形舱体

反应舱材质

派热克斯玻璃&铝材

派热克斯玻璃&铝材

水冷式

水冷装置

水冷装置

负载比

10%至连续性

10%至连续性

标准流量

5cu-ft./Hr.@STP

5cu-ft./Hr.@STP

频率(GHz)

2.45 GHz

2.45 GHz

功率(Watts)

100至750之间调节

100至750之间调节

重量 (Kg)

29.5kg

38.5kg